平均細穴径21μm、開放面積1%の多穴質グラファイト電極を作製するプロセスを、ピコ秒パルスレーザーと多角形ミラーで構成したシステムで開発しました。作製された多穴質黒鉛電極は、黒鉛電極がセパレータと反対側のLi金属箔で積層されたセルでより高いLiプリドーピング反応(プリリチウム化)率を示すためにグラファイト電極上の多穴質設計を評価するために使用された。この研究の結果は、リチウムがLi箔に近い第1電極からより遠い電極に段階的に進むことを示している。リチウムイオンの移動は、細穴を含まない電極の領域でリチウム化が起こらなかったため、リチウムイオンを制御した。また、多穴質電極は、多穴質集電体に黒鉛層を被覆して作製した電極と比べて、はるかに高いリチウム化率を示した。㈱ワイヤード